高光譜測(cè)試系統(tǒng)

簡(jiǎn)要描述：高光譜測(cè)試系統(tǒng)基于offner型的凸面光柵分光系統(tǒng)，其原理新穎，相比較其他分光系統(tǒng)具有光學(xué)相對(duì)孔徑大、色散線(xiàn)性度好、結(jié)構(gòu) 緊湊和圖像成像質(zhì)量佳等優(yōu)點(diǎn)。

產(chǎn)品型號(hào)：
廠商性質(zhì)：生產(chǎn)廠家
更新時(shí)間：2024-07-26
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顯微缺陷膜厚半導(dǎo)體晶圓缺陷檢測(cè)儀高光譜測(cè)試系統(tǒng) 瞬態(tài)吸收系統(tǒng) 太陽(yáng)能電池量子效率太陽(yáng)光模擬器IV系統(tǒng) 顯微光電流成像系統(tǒng) 探測(cè)器光響應(yīng)度系統(tǒng) 光譜變溫附件探針臺(tái) 拉曼SERS增強(qiáng)試劑顯微熒光系統(tǒng) 組合熒光系統(tǒng) 鏡頭透過(guò)率測(cè)試系統(tǒng) 漫反射率測(cè)試系統(tǒng) 反射、吸收率系統(tǒng) 成像亮度計(jì) 標(biāo)準(zhǔn)燈參考輻射定標(biāo) 電致發(fā)光系統(tǒng) 常規(guī)發(fā)射光譜系統(tǒng) 共聚焦拉曼光譜儀

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高光譜測(cè)試系統(tǒng)

基于offner型的凸面光柵分光系統(tǒng)，其原理新穎，相比較其他分光系統(tǒng)具有光學(xué)相對(duì)孔徑大、色散線(xiàn)性度好、結(jié)構(gòu) 緊湊和圖像成像質(zhì)量佳等優(yōu)點(diǎn)。該種類(lèi)型組成的成像光譜儀在效率（能量利用率）和光學(xué)畸變相比較其他類(lèi)型的成像光譜儀中性能表現(xiàn).佳。系統(tǒng)中由于采用專(zhuān)門(mén)研制的閃耀光柵，平均效率高達(dá)60%以上，替代了美國(guó)headwall 高效率成像光譜儀系列產(chǎn)品（注：該類(lèi)型產(chǎn)品被美國(guó)列為為禁運(yùn)）。匹配的相機(jī)采用SCMOS相機(jī)，平均量子效率高達(dá)60%，靈敏度和性能達(dá)到了EMCCD 相機(jī)的水平。

高光譜測(cè)試系統(tǒng)核心優(yōu)勢(shì)：

全反射光學(xué)設(shè)計(jì)； F/2.2 大通光孔徑
高效率凸面光柵；消除梯形失真和曲線(xiàn)彎曲
寬波譜范圍；杰出的光譜/空間分辨率
理想的弱照明、弱信號(hào)環(huán)境下的應(yīng)用
結(jié)構(gòu)緊湊、寬視場(chǎng)角
非常高的信噪比；低散射或者雜散光水平
穩(wěn)定和耐用的堅(jiān)固設(shè)計(jì)；高性?xún)r(jià)比，多種標(biāo)準(zhǔn)鏡頭選配

名稱(chēng)	VNIR成像光譜儀	SWIR成像光譜儀	SWIR成像光譜儀
光譜范圍（nm）	400-1000	900-1700	1000-2300
分光類(lèi)型	凸面光柵分光
光譜分辨率（狹縫25um）	3-4 nm	優(yōu)于10 nm	10nm
光譜分辨率（狹縫12um）	1.5-2 nm	優(yōu)于5nm	/
光學(xué)孔徑F/#	F/2.2
狹縫高度	12mm
像素色散值	0.6nm	3.6nm/pixel	7nm
光譜波長(zhǎng)精度（nm)	優(yōu)于1	優(yōu)于2	優(yōu)于4
光學(xué)系統(tǒng)效率（平均）	60%
光譜通道	256-1152(可編程）	220
空間通道	2048	320
SCMOS相機(jī)	像元：6.5um6.5um像元數(shù)：20481152 QE＞70%@595nm	像元：15um15um 像元數(shù)：640512	像元：30um30um 像元數(shù)：320256
數(shù)據(jù)量化位數(shù)	16	12
前置鏡頭	焦距17mm	焦距4.8-70mm,可選配
儀器重量（kg）	4.2	4.5
尺寸（mm)	215175110	260175110